Grânulos cristalinos de boro com uma pureza de 99-99,99%, de 5 a 10 mm, para alvos de liga de boro.
Grânulos cristalinos de boro com pureza de 99% a 99,99%, de 5 a 10 mm, para alvos de liga de boro. O material apresenta uma estrutura cristalina completa, baixo teor de impurezas, propriedades químicas estáveis e baixa libertação de gases.
É utilizado principalmente como matéria-prima para alvos de pulverização catódica de liga de boro. Adequado para fusão a vácuo, fundição de ligas, revestimento de filmes finos semicondutores, preparação de alvos para PVD e produção de materiais eletrónicos avançados. Pode ser adicionado à matriz metálica para preparar alvos de liga contendo boro com composição uniforme.
Índice de produtos de boro cristalino granular 3N 4N de 3-5 mm e 5-10 mm da China:
| Fórmula molecular: | B |
| CAS | 7440-42-8 |
| Densidade | 2,3 g/cm³ |
| Fase | Fase β-B |
| Ponto de fusão | 2300°C |
| Ponto de ebulição | 2550°C |
| Dureza de Mohs | >9 |
| Massa atómica relativa | 10,81 |
| Isótopos estáveis | 10B, 11B |
| Cor | Cinza escuro, preto |
Composição química:
| Produtos químicos | 2N BÓRON CRISTALINO | 3N BÓRON CRISTALINO | 4N BÓRON CRISTALINO | 5N BÓRON CRISTALINO | 6N BÓRON CRISTALINO |
| B | ≥99% | ≥99,9% | ≥99,99% | ≥99,999% | ≥99,9999% |
| Fe | ≤500 ppm | ≤200 ppm | ≤90 ppm | ≤8 ppm | ≤0,5 ppm |
| No | ≤2,5 ppm | ≤0,08 ppm | ≤0,06 ppm | ≤0,02 ppm | ≤0,02 ppm |
| No | ≤1 ppm | ≤0,8 ppm | ≤0,3 ppm | ≤0,03 ppm | ≤0,03 ppm |
| Com | ≤12 ppm | ≤10 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,03 ppm | ≤0,03 ppm |
| Sn | ≤30 ppm | ≤9 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,08 ppm |
| Mn | ≤300 ppm | ≤3 ppm | ≤1,1 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,07 ppm |
| Chumbo | ≤0,08 ppm | ≤0,3 ppm | ≤1,1 ppm | ≤0,08 ppm | ≤0,02 ppm |
| Que | / | ≤18 ppm | ≤0,2 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,01 ppm |
| Como | / | / | / | ≤0,08 ppm | ≤0,01 ppm |
| EM | / | / | / | ≤0,05 ppm | ≤0,02 ppm |
| Ge | / | / | / | ≤0,05 ppm | ≤0,04 ppm |
Tamanho e embalagem típicos:
| CONTEÚDO DE BORO | TAMANHO TÍPICO | Pacote |
| 99 | 1-5 μm, 10-30 μm, 50-100 μm | Acondicionado em sacos de alumínio a vácuo, com 1kg/5kg (apenas o nanopó é selado, sem vácuo). |
| 99,9 | -200 Mesh, 0-10 μm, 1-10 mm | Tipo em pó: 1kg/5kg/ embalado em saco de alumínio a vácuo,
Tipo granulado: 50g/500g/1000g embalados em frasco de PP, preenchido com proteção de gás inerte. |
| 99,99 | -200Malha, 1-10mm | Acondicionado em frasco de PP de 50g/100g, selado com gás inerte. |
| 99,999 | ||
| 99,9999 |
Aplicação:
1. Aplicações do boro cristalino na indústria nuclear:
Crystalline boron plays a crucial role in the nuclear energy field. It can be used as a neutralization control material in nuclear reactors. Boron can compensate for and regulate neutralization reactivity and to facilitate emergency shutdowns. Thus maintains stable reactor operation. Crystalline boron not only has a high neutralization absorption cutoff but also a wide range of neutralization energy absorption, effectively reducing or regulating the neutralization flux generated by nuclear energy. Thereby it ensures the safety of the nuclear energy system.
2. Applications of Crystalline Boron in Semiconductor Manufacturing:
Crystalline boron is also widely used in the semiconductor industry. As a p-type dopant, crystalline boron can be used to modify the conductivity of semiconductor materials. By doping crystalline boron into silicon Ingot, the conductivity properties of silicon can be altered. Then manufacture semiconductor devices with different conductivity types, such as diodes and field-effect transistors. In addition, crystalline boron can also be used as a raw material for growing long-lasting semiconductor single-crystal materials. Boron-doped silicon single crystals can be grown using a melt-blown method for fabricating high-performance semiconductor devices.
99.9% purity crystalline boron powder is used in the production of solar silicon wafers as a substrate dopant for P-type silicon wafers and as a boron emitter diffuser for N-type silicon wafers. High-purity boron powders of 5N and 6N can be used as dopants for P-type semiconductors to alter their conductivity and are used in the production of high-purity silicon wafers.
3. Application of crystalline boron in semiconductor sputtering targets:
3N and 4N crystalline boron particles can be added to functional alloy products to form targets for semiconductor sputtering coating.
4. Applications of Crystalline Boron in Optics:
Crystalline boron also has extensive applications in optics. Due to its excellent nonlinear optical properties, crystalline boron can achieve functions such as light modulation, frequency sweeping, and frequency doubling. Therefore, crystalline boron is widely used in optical devices, including optical modulators, optical frequency combs, and lasers. Furthermore, crystalline boron can also be used as a gain medium in infrared lasers, exhibiting a large emission cutoff and a wide excitation spectrum range.
5. Crystalline Boron in High-Hardness Ceramic Materials:
O boro cristalino pode também ser utilizado para preparar materiais de elevada dureza, como o carboneto de boro (B4C) e os compostos de boro-grafite (Bg). O carboneto de boro é um material cerâmico extremamente duro, com excelente resistência ao desgaste e a altas temperaturas, sendo, por isso, muito utilizado no fabrico de coletes à prova de bala, ferramentas de elevada dureza, abrasivos e cerâmicas resistentes ao desgaste. Os compostos de boro-grafite são materiais com uma estrutura semelhante à da grafite, apresentando uma elevada condutividade elétrica e estabilidade térmica, podendo ser utilizados para preparar ligantes condutores de alto desempenho, materiais termicamente condutores e materiais de fricção.
6. Aplicações do boro cristalino em baterias térmicas:
As baterias térmicas são baterias de armazenamento monofásicas ativadas termicamente que utilizam sal fundido como eletrólito. Apresentam vantagens como tamanho reduzido, peso leve, longa vida útil, funcionamento livre de manutenção, ativação rápida e fiável e ampla gama de temperatura de funcionamento, sendo amplamente utilizadas em dispositivos de ignição de algumas armas estratégicas e convencionais. O material do ânodo de uma bateria térmica desempenha um papel decisivo na sua capacidade, volume e potência de saída. Os materiais de ânodo para baterias térmicas evoluíram dos materiais de partida à base de magnésio e cálcio para os atuais materiais à base de lítio. Por exemplo, os compósitos de Li-B apresentam vantagens notáveis, tais como elevada densidade de energia, elevada potência de saída, baixa polarização, potencial eletroquímico próximo do lítio puro e estabilidade a temperaturas acima dos 600 °C. Este é o material de ânodo mais promissor para baterias térmicas e está a ser gradualmente aplicado em baterias térmicas de alta tecnologia.
7. Aplicações do boro cristalino na indústria militar:
O boro cristalino pode ser utilizado para fabricar materiais balísticos cerâmicos de boro de alta pureza, agentes retardantes de boro de alta pureza, fluxos de soldadura de boro de alta pureza, explosivos de boro de alta pureza e propelentes de foguete ricos em combustível e pobres em oxigénio, todos à base de boro de alta pureza.
8.º Boro cristalino no fabrico de ligas:
Liga de cobre-boro de alta pureza, liga de titânio-boro de alta pureza, aço policristalino de boro de alta pureza, ferramentas superduras e resistentes ao desgaste de boro de alta pureza, chapas de aço resistentes à corrosão de boro de alta pureza, liga de níquel-boro de alta pureza, liga de cromo-boro de alta pureza, liga de lítio-boro (um novo material para baterias), liga supercondutora de boro-magnésio.
9. Aplicações do boro cristalino na indústria aeroespacial:
O pó de boro cristalino de alta pureza pode ser utilizado como material de nanorrevestimento. Através da tecnologia de pulverização catódica, o material em pó é depositado sobre a superfície de um substrato, tornando os componentes resistentes ao desgaste, à corrosão, a altas temperaturas, à oxidação e às intempéries. Este satisfaz os requisitos dos motores submetidos às condições de serviço extremamente severas da indústria aeroespacial e de aviação, além de poder satisfazer requisitos específicos em optoelectrónica e outros campos.
Pacote:
PERGUNTAS FREQUENTES:
1. P: Existe alguma restrição à exportação de material de boro cristalino da China?
R: Sim, para grãos pequenos de boro cristalino de alta pureza e pó de boro, é necessário obter uma licença de exportação de utilização dupla. Mas para tamanhos maiores, acima de 0,5-1 mm, a exportação é permitida.
2. P: Qual é a fase cristalina do pó de boro cristalino?
A: É a fase beta da estrutura icosaédrica.
